儲存注意事項：儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。防止陽光直射。包裝密封。應與還原劑、活性金屬粉末、食用化學品分開存放，切忌混儲。

光學領域

減反射膜：在光學鏡片和太陽能電池上形成均勻 CeO?薄膜，使透光率提升至 98% 以上，減少反射損失。

• 太陽能電池應用：減少表面反射 (從 30% 降至 5% 以下)，增加光吸收，提高光電轉換效率 10-15%

高折射率光學材料：用于制備望遠鏡、顯微鏡等高精密光學元件，提高成像分辨率和對比度。

2. 電子與半導體

集成電路拋光材料：

• 用于硅片和藍寶石襯底的化學機械拋光 (CMP)，利用 CeO?的高硬度和化學活性實現超平坦化，表面粗糙度 < 1nm

• 在先進制程 (7nm 以下) 中作為關鍵材料，確保全局平坦化

半導體掩膜版蝕刻：

• 高純度 CAN 溶液 (≥99.9%) 作為鉻掩模蝕刻液，具有選擇性高、蝕刻速率可控 (50-200nm/min)、不損傷光刻膠等優勢，廣泛應用于面板和芯片制造

3. 防腐與保護涂層

金屬防腐：

• 在鋼鐵、鋁合金表面形成致密 CeO?保護膜，隔離氧氣和水分，顯著提升耐蝕性

• 鎂合金應用：腐蝕電位從 - 1.69V 提升至 - 1.26V，腐蝕電流密度降低 97%，耐磨時間延長 8 倍 (從 1min 到 8min)