1.精拋

⑴.概要與特點

本公司生產(chǎn)的PG-3、PG-5、PG-8、PG-10氧化鋁產(chǎn)品，采用獨特的生產(chǎn)工藝，利用國內(nèi)外先進的生產(chǎn)設(shè)備，通過嚴謹?shù)纳a(chǎn)流程制作而成。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：

●晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；

●磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；

●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。

⑵.規(guī)格

⑶.用途

①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。

②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。

③金屬表面拋光。

④拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶、液晶玻璃和光學玻璃的表面拋光。

⑤汽車油漆打磨拋光，手機外殼油漆拋光等。

2.半導體拋光

⑴.產(chǎn)品介紹：本公司生產(chǎn)的PB系列研磨拋光微粉，是以專用氧化鋁為主要原料，添加特殊礦化劑，晶粒形貌呈平板狀。硬度僅次于金剛石，是非常優(yōu)異的精密研磨拋光、研磨微粉。

⑵.性能：平板型氧化鋁研磨拋光粉顆粒呈獨特的平板狀結(jié)構(gòu)，硬度高達莫氏九級，磨削力強，不易產(chǎn)生劃痕，可得到高效率、高精度的被加工表面，有特殊設(shè)計的粒度分布，質(zhì)量同日本 FUJIMI公司的PWA和美國Microgrit 的WCA相當。 

⑶.特點：平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的最大區(qū)別是：片狀，硬度高，粒度均勻。

特點為： 

　　①.形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數(shù)量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍； 

　　②.由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上； 

　  ③.由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%； 

　　④.與國外同類產(chǎn)品相比，質(zhì)量達到或超過國外同類產(chǎn)品，品質(zhì)已達到國際標準，但產(chǎn)品價格只有國外同類產(chǎn)品的60%--70%； 

⑤.由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)成本只有原來的50%-60%。

⑸.用途： 

    ①.電子行業(yè)：半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體（砷化鎵、磷化銦）的研磨拋光。 

　　②.玻璃行業(yè)：硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。 

　　③.涂附行業(yè)：特種涂料和等離子噴涂的填充劑。 

　　④.金屬和陶瓷加工業(yè)。