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腐刻劑 氧化劑CAN 硝酸鈰銨
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蝕刻原理：硝酸鈰銨中的鈰離子為 + 4 價，具有強氧化性。在酸性環境下，\(Ce^{4+}\)的標準電極電勢在 1.61V 左右，其能夠與許多金屬發生氧化還原反應，比如可以把金屬鉻從 0 價氧化為 Cr (VI)，從而讓金屬溶解，實現蝕刻目的 。 常見應用領域 鉻金屬蝕刻：硝酸鈰銨是制備鉻蝕刻液的常用原料，市售的鉻蝕刻液常為硝酸鈰銨水溶液中加入高氯酸或硝酸的混合液。同時為進一步提升刻蝕效果，部分蝕刻液配方還會添加非氧化性酸、過氧化氫、穩定劑等成分 。 其他金屬及合金蝕刻：它還可用于蝕刻鋁、銅、鎳以及鎳鉻合金等材料，通常也需要搭配其他酸性物質組成蝕刻體系，如鎳鉻合金蝕刻劑就是硝酸鈰銨和硝酸的混合構成的高純度蝕刻體系。 半導體材料加工：在半導體產業里，硝酸鈰銨基蝕刻劑可以用于 GaAs 等半導體材料蝕刻，同時也能對硅、鉭 / TaN 等材料進行表面氧化處理，以滿足半導體器件特定的工藝制造需求 。
腐刻優勢：硝酸鈰銨蝕刻精度相對較高，能夠實現精細的蝕刻圖案，對于一些對蝕刻精度要求高的電子元件制造，如集成電路板制作等，硝酸鈰銨蝕刻液可較好地滿足其需求。
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硝酸鈰銨16774-21-3 工業硝酸鈰銨醫藥行業催化劑，供應硝酸鈰銨
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