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半導體掩膜版蝕刻 硝酸鈰銨高純度 CAN 溶液
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集成電路拋光材料： 半導體掩膜版蝕刻：
二水硝酸鈰銨CAS:16774-21-3
| 光學性能 | 高透過率 (>98%)、低反射 (<5%)、可調折射率 (1.9-2.2) | | 化學穩定性 | 耐酸、耐堿、抗氧化，工作溫度可達 500℃以上 | | 工藝適應性 | 適用于多種基材 (玻璃、硅、金屬、陶瓷)，可通過調整工藝參數控制膜厚 (10nm-1μm) | | 環保性 | 無毒 (鈰為稀土元素，生物相容性好)，部分工藝無有害排放 |
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聯系方式 |
| 單位名稱：
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山東德盛新材料有限公司
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| 聯系人：
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姬元元
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| 聯系電話：
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18905372177
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| 傳真：
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| 地址：
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濟寧市金宇路52號創新大廈東區D座二層
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| E-mail：
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jyy@xitucn.com
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| 網址：
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山東德盛新材料有限公司
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| 備注：
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硝酸鈰銨溶液，二水硝酸鈰銨，硝酸鈰銨化學穩定性，硝酸鈰銨含量檢測
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