近日，專注于稀土拋光粉、CMP拋光液兩大系列產品業務的省專精特新“小巨人”企業湖南皓志科技股份有限公司（皓志科技）登陸新三板。
皓志科技公開其特色專利技術“一種氧化鋯研磨液的生產工藝”榮獲湖南省重點發明專利，“半導體用納米級氧化鋁拋光液”突破國外先進拋光液工藝限制，填補了國內第三代半導體碳化硅晶片批量加工拋光液的技術空白，被湖南省工業和信息化廳認定為“省級工業新產品”。稀土拋光粉產品系列主要成分為氧化鈰，主要應用于各類玻璃拋光，包括相機鏡頭、凹凸透鏡、3C電子屏幕以及安防、軍工等領域。拋光液按成分有氧化鋯、氧化硅、氧化鋁、碳化硼等系列，其中氧化鋯系列用于光學玻璃拋光；氧化硅系列用于藍寶石、碳化硅晶圓拋光；氧化鋁系列用于藍寶石襯底、窗口、碳化硅晶圓拋光；碳化硼系列助磨劑主要用于藍寶石材料及有特殊要求的金屬材質拋光。
據皓志科技公開轉讓說明書信息披露，目前國內稀土拋光粉與進口產品普遍存在顆粒控制技術、晶型和形貌控制技術等方面的差距，比如高性能稀土拋光材料中的大顆粒及異物控制難以降低等。近年來，隨著我國晶圓廠持續擴產擴建等因素，我國CMP拋光液需求持續增長，在國家產業政策扶持和社會資金支持等利好條件下，國內CMP拋光液領域將涌現更多具有國際競爭力的產品，在更多關鍵領域實現進口替代，進一步提升CMP拋光液國產化水平。
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作者：粉體圈
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