近日，專注于稀土拋光粉、CMP拋光液兩大系列產(chǎn)品業(yè)務(wù)的省專精特新“小巨人”企業(yè)湖南皓志科技股份有限公司（皓志科技）登陸新三板。

皓志科技公開其特色專利技術(shù)“一種氧化鋯研磨液的生產(chǎn)工藝”榮獲湖南省重點(diǎn)發(fā)明專利，“半導(dǎo)體用納米級(jí)氧化鋁拋光液”突破國外先進(jìn)拋光液工藝限制，填補(bǔ)了國內(nèi)第三代半導(dǎo)體碳化硅晶片批量加工拋光液的技術(shù)空白，被湖南省工業(yè)和信息化廳認(rèn)定為“省級(jí)工業(yè)新產(chǎn)品”。稀土拋光粉產(chǎn)品系列主要成分為氧化鈰，主要應(yīng)用于各類玻璃拋光，包括相機(jī)鏡頭、凹凸透鏡、3C電子屏幕以及安防、軍工等領(lǐng)域。拋光液按成分有氧化鋯、氧化硅、氧化鋁、碳化硼等系列，其中氧化鋯系列用于光學(xué)玻璃拋光；氧化硅系列用于藍(lán)寶石、碳化硅晶圓拋光；氧化鋁系列用于藍(lán)寶石襯底、窗口、碳化硅晶圓拋光；碳化硼系列助磨劑主要用于藍(lán)寶石材料及有特殊要求的金屬材質(zhì)拋光。

據(jù)皓志科技公開轉(zhuǎn)讓說明書信息披露，目前國內(nèi)稀土拋光粉與進(jìn)口產(chǎn)品普遍存在顆?？刂萍夹g(shù)、晶型和形貌控制技術(shù)等方面的差距，比如高性能稀土拋光材料中的大顆粒及異物控制難以降低等。近年來，隨著我國晶圓廠持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)擴(kuò)建等因素，我國CMP拋光液需求持續(xù)增長，在國家產(chǎn)業(yè)政策扶持和社會(huì)資金支持等利好條件下，國內(nèi)CMP拋光液領(lǐng)域?qū)⒂楷F(xiàn)更多具有國際競爭力的產(chǎn)品，在更多關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)進(jìn)口替代，進(jìn)一步提升CMP拋光液國產(chǎn)化水平。

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