4N（99.99%）及以上純度的高純氧化鋁Al₂O₃（HPA）因其卓越的物理、化學和光學和電學等特性而被廣泛用于各種高端應用中，被公認是為現代科技和工業領域提供了重要支持的基礎關鍵材料。

作為一家緊緊圍繞高純氧化鋁做文章的高科技企業，寧波國鋒新材料科技有限公司（國鋒新材料）具有先進的生產加工設備和工藝技術，設計年生產能力為1000噸/年，主要生產高純氧化鋁研磨介質、高純氧化鋁陶瓷粉、高純氧化鋁專用粉、高純氧化鋁拋光粉拋光液、高純氧化鋁納米懸混液、透明氧化鋁陶瓷管（件）六大系列，并已取得ISO與SGS等資質認證。以下具體了解下國鋒新材料開發的高附加值產品吧！

1、高純氧化鋁研磨介質

相比常見氧化鋯磨介，高純氧化鋁磨介可以為一些應用提供特別支持，甚至可以說具有重大意義和必要性，為相關產業升級做出了極大貢獻。比如，CMP拋光粉拋光液、高性能陶瓷粉體（以碳熱還原法制備氮化鋁粉體時，氧化鋁和碳粉混料過程中需要用高純氧化鋁磨介做分散介質）、高端氧化鋁基板和氮化鋁基板（氮化鋁基板和氧化鋁996以上基板做流延前的粉體改性都需要用高純氧化鋁球作為研磨分散介質）、高純納米氧化鋁加工等等，都對純度有極高要求；另外在要求耐酸堿、耐腐蝕、耐高溫的工況下，高純氧化鋁磨介滿足極高化學穩定性的同時也具備強度高、硬度高、磨耗低的優點。

產品規格：0.2-10mm，密度≥3.8g/cm3，堆密度≥2.2g/cm3。

2、高純氧化鋁陶瓷粉

在藍寶石長晶、激光晶體、半導體、陶瓷以及照明行業等行業，對氧化鋁粉體純度要求極高，4N以上純度粉體才能制備高品質藍寶石晶體，確保半導體襯底和基板的電氣穩定和可靠，以及制備出耐腐蝕和光學陶瓷材料。

部分產品指標

產品規格：高純氧化鋁陶瓷粉粒度由0.1um-6um可調可控，粉體粒度分布窄、顆粒均勻一致性好，α晶相占比96%。

3、高純氧化鋁專用粉

高純氧化鋁是制備氮化鋁粉體、透明陶瓷、高端氧化鋁基板，半導體陶瓷的主材，不同應用對粉體有不同要求，細微的差別都可能導致終端效果的大相徑庭。比如，氮化鋁粉體對純度和粒徑分布非常敏感；透明陶瓷則對粉體微觀結構提出要求；高端氧化鋁基板不僅要求純度，同時也要滿足粉體流動性、壓實性和燒結性能；半導體應用除了純度和晶粒尺寸，也關注介電常數、熱導率等等，上述原因也意味著供應商必須具備優秀的產品開發定制能力。

部分產品指標

高純氧化鋁專用粉系列由多種工藝制備而成，具有純度高、粒徑小、分布均勻、工藝性能穩定、分散性好、良好的低溫燒結性。制作的成品有導熱系數高，介電常數高，電性能好等特點，材料匹配適用性強，粉體各項指標可根據客戶需求定制,使客戶得到滿意的使用效果。

4、高純氧化鋁拋光粉（拋光液）

高純氧化鋁拋光粉具有硬度高、粒度分布集中、性能穩定。難溶于酸、堿溶液，擁有良好的耐腐蝕性能；高純氧化鋁拋光液是以粒徑均勻的微晶納米氧化鋁顆粒為磨粒，不添加硫、磷、氯添加劑的水性拋光劑，懸浮性能高，不易沉淀——具有較高的晶體表面去除率、低表面粗糙度以及清洗簡便，不會形成頑固結晶。高純氧化鋁拋光粉和拋光液是半導體、陶瓷、金屬等行業表面處理的常用磨料。

典型指標

氧化鋁拋光粉硬度高、密度分布集中、晶粒發育飽滿；氧化鋁拋光液顆粒大小均勻，適用于藍寶石C向片、M向片、陶瓷、黑色金屬、鋁和不銹鋼等其他金屬合金拋光，并可多次循環使用，相比傳統的拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節約30-50%，加工流程短，且不會在表面形成頑固結晶，降低清洗成本。

5、透明氧化鋁陶瓷管（件）

透明氧化鋁陶瓷對可見光和紅外光具有良好的透過性，同時也具有高溫強度大、耐熱性能好、耐腐蝕性強及電阻率大等特點。主要應用于高壓鈉燈、金屬鹵化物等高強度氣體放電燈的以及透紅外窗口材料。

技術指標

透明陶瓷管（件）氧化鋁含量≥99.99%，密度≥3.96g/cm3，介電常數10MHz，擊穿強度≥60KV/mm，全透光率≥95%。

小結

國鋒新材料的研磨介質的產品具強度高、硬度高、磨耗低，Al₂O₃≥99.99%，適用于高純度材料加工；粉體材料具有純度高、化學性能穩定、高溫收縮性能適中，具有良好的燒結性能以及普通氧化鋁粉無法比擬的光、電、磁、熱和機械性能，在高技術新材料領域和現代化工業中有著廣泛應用。

透明氧化鋁陶瓷管（件）是國鋒新材料對高純氧化鋁粉體下游制品的成功探索和產業延伸。公司現擁有高溫氫氣氣氛爐十余臺，專門針對于材料在氫氣氣氛環境中進行燒結或者退火，其燒結溫度最高可達1850℃。高溫還原氣氛環境不但可以避免氧化鋁的高溫反應，也有利于減少其他氧化物雜質，在陶瓷制備、光學材料、激光器件、稀土材料等領域都可發揮重大作用，這也讓國鋒新材料有足夠能力擴容高端產品陣容。

粉體圈 郜白

本文為粉體圈原創作品，未經許可，不得轉載，也不得歪曲、篡改或復制本文內容，否則本公司將依法追究法律責任。