原子層沉積（ALD）是一項能夠實現原子級厚度精度控制的表面改性技術，近年來在材料工程領域受到越來越多的關注。憑借其優異的保形性、致密性和厚度可控特性，ALD 在精密制造行業已得到廣泛應用。而在高曲率高比表的粉體材料領域，ALD 技術也逐漸展現其獨特價值。

PALD 技術制備的薄膜更均勻（左：溶膠凝膠法；右：ALD）

在即將舉行的“2025 全國粉體檢測與表面修飾技術交流會（第九屆）暨 CEMIA 粉體技術分會 2025 年年會”上，復納科學儀器（上海）有限公司（簡稱：復納科技）產品經理莊思濛將帶來主題報告《原子層沉積技術在粉體工程中的應用》，從技術原理、工藝特點到實際案例，全方位呈現該技術在粉體工程中的最新進展。

ALD：粉體表面改性的新路徑

粉體材料由于比表面積大、表面缺陷多，容易出現團聚、穩定性差、壽命短等問題，限制了其在許多高端領域的進一步應用。如何在顆粒表面構筑均勻、穩定且厚度可控的薄膜，是粉體工程長期面臨的核心挑戰。

ALD 的出現，為粉體材料提供了新的解決方案。其關鍵優勢包括：

l 原子層級厚度控制：可使涂層厚度保持在0.1~100 nm的高精度范圍；

l 膜層均勻：涂層具有共形、無針孔、均勻的特點；

多行業驗證的典型應用方向

雖然ALD在粉體工業中的應用起步較晚，但在過去數年間，它已在多個材料領域完成商業化驗證。以下是ALD 在多個行業中的應用案例：

1、鋰電池材料的性能提升

在鋰離子電池中，電極粉末在循環過程中容易發生界面副反應，導致容量衰減與安全性下降。

通過在粉體表面形成均勻薄膜，可以穩定材料表面結構、提高電池性能、減緩鋰不可逆損耗、提升循環壽命和高電壓適應性。

ALD 在 NMC 粉末表面包覆氧化物涂層

2、催化劑更穩定、壽命更長

催化劑粉末的活性組分常因燒結、浸出而導致性能退化。通過 ALD 進行表面修飾，可實現保護活性位點，避免催化劑的燒結與浸出、提高催化劑使用壽命與反應穩定性的作用。

3、金屬與陶瓷粉體的可靠性提升

金屬粉末與陶瓷粉末廣泛應用于粉末冶金、電子漿料、增材制造等行業。通過構筑穩定的表面涂層，可以減少粉體的氧化與吸濕、改善儲運過程中的穩定性、提燒結改善界?、減少夾雜物的作用。

工業化的關鍵挑戰仍需攻關

雖然 ALD技術在粉體材料中的表現突出，但真正走向工業化仍需要解決以下瓶頸：1)如何實現大批量粉體的均勻沉積；2)將涂層成本降低到行業可接受水平；3)確保不同材料體系均能獲得效果。

本次報告將介紹粉體原子層沉積技術的發展、實現方式、其在新能源領域的應用以及工業應用的挑戰。如果各位對報告內容感興趣，歡迎了解會議詳情及報名。期待各位行業同仁蒞臨大會現場，與莊思濛經理及眾多專家深入交流，共同探討粉體工程發展的新方向。

關于報告人及復納科技

莊思濛先生本碩畢業于北京科技大學新澳彩資料無機非金屬材料專業，目前就職于復納科學儀器（上海）有限公司，負責Forge Nano的原子層沉積設備技術中國市場的技術支持與應用推廣工作

其公司復納科技成立于 2012 年，致力于為工業、高校、科研機構及政府部門提供先進的分析測試儀器與智能材料工程裝備。多年來持續引進全球領先的技術與設備，為客戶提供可靠、高效的產品及技術解決方案，支持科研創新與材料產業升級。

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