8月6日，全球領先的先進技術陶瓷制造商CoorsTek宣布在韓國慶尚北道龜尾市隆重開設其第三家工廠。CoorsTek自1992年進入韓國以來，一直在龜尾工廠投資研究和制造設施，將通過新建龜尾第三工廠來響應半導體市場快速變化的需求，并為韓國半導體生態系統的發展做出貢獻。

CoorsTek龜尾第三工廠開設儀式。（圖片來源：CoorsTek）

CoorsTek計劃將龜尾第三工廠用作新產品導入中心，以確保及時交付客戶所需的高質量產品。CoorsTek計劃具體通過新工廠引進CVD SiC制造工藝，開發和量產適用于各種應用的最佳材料。新的龜尾第三工廠將成為CoorsTek進行尖端研發和擴大半導體設備部件生產以滿足市場需求的關鍵設施。

CVD SiC是一種自2010年以來通過持續研究而不斷進步的高效半導體材料。在與慶尚北道和龜尾市簽署了投資先進陶瓷制造設施的諒解備忘錄后，CoorsTek在龜尾國家工業園區建造了第一家龜尾工廠。這為其在亞洲的生產設施打造中心奠定了基礎。CoorsTek意識到半導體需求的增長和韓國半導體材料行業的競爭力，計劃今年在龜尾開設第三家工廠，并在2020年擴建龜尾第二工廠，以加強其在龜尾的制造競爭力。

譯者注：

CVD是一種通過化學反應在基材表面沉積薄膜的工藝。在SiC的制造過程中，CVD技術用于將硅和碳源轉化為SiC薄膜。在半導體制造業，CVD SiC常用在MOSFET、IGBT等功率器件，高頻、高功率通信設備，以及高溫環境下的傳感器、探測器和其他電子器件中。

編譯整理 YUXI