8月6日，全球領(lǐng)先的先進(jìn)技術(shù)陶瓷制造商CoorsTek宣布在韓國(guó)慶尚北道龜尾市隆重開(kāi)設(shè)其第三家工廠(chǎng)。CoorsTek自1992年進(jìn)入韓國(guó)以來(lái)，一直在龜尾工廠(chǎng)投資研究和制造設(shè)施，將通過(guò)新建龜尾第三工廠(chǎng)來(lái)響應(yīng)半導(dǎo)體市場(chǎng)快速變化的需求，并為韓國(guó)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

CoorsTek龜尾第三工廠(chǎng)開(kāi)設(shè)儀式。（圖片來(lái)源：CoorsTek）

CoorsTek計(jì)劃將龜尾第三工廠(chǎng)用作新產(chǎn)品導(dǎo)入中心，以確保及時(shí)交付客戶(hù)所需的高質(zhì)量產(chǎn)品。CoorsTek計(jì)劃具體通過(guò)新工廠(chǎng)引進(jìn)CVD SiC制造工藝，開(kāi)發(fā)和量產(chǎn)適用于各種應(yīng)用的最佳材料。新的龜尾第三工廠(chǎng)將成為CoorsTek進(jìn)行尖端研發(fā)和擴(kuò)大半導(dǎo)體設(shè)備部件生產(chǎn)以滿(mǎn)足市場(chǎng)需求的關(guān)鍵設(shè)施。

CVD SiC是一種自2010年以來(lái)通過(guò)持續(xù)研究而不斷進(jìn)步的高效半導(dǎo)體材料。在與慶尚北道和龜尾市簽署了投資先進(jìn)陶瓷制造設(shè)施的諒解備忘錄后，CoorsTek在龜尾國(guó)家工業(yè)園區(qū)建造了第一家龜尾工廠(chǎng)。這為其在亞洲的生產(chǎn)設(shè)施打造中心奠定了基礎(chǔ)。CoorsTek意識(shí)到半導(dǎo)體需求的增長(zhǎng)和韓國(guó)半導(dǎo)體材料行業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力，計(jì)劃今年在龜尾開(kāi)設(shè)第三家工廠(chǎng)，并在2020年擴(kuò)建龜尾第二工廠(chǎng)，以加強(qiáng)其在龜尾的制造競(jìng)爭(zhēng)力。

譯者注：

CVD是一種通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基材表面沉積薄膜的工藝。在SiC的制造過(guò)程中，CVD技術(shù)用于將硅和碳源轉(zhuǎn)化為SiC薄膜。在半導(dǎo)體制造業(yè)，CVD SiC常用在MOSFET、IGBT等功率器件，高頻、高功率通信設(shè)備，以及高溫環(huán)境下的傳感器、探測(cè)器和其他電子器件中。

編譯整理 YUXI