化學(xué)拋光技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路和超大規(guī)模集成電路中對基體材料硅晶片的拋光，是半導(dǎo)體晶圓制造的必備流程之一，對高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。而在決定CMP最終效果的各項因素中，拋光液是關(guān)鍵中的關(guān)鍵。CMP拋光液主要由磨料、溶劑和各種不同的添加劑組成，為了保證拋光質(zhì)量，避免磨料團聚對被加工材料造成大劃痕，在使用前檢測顆粒在懸浮液中的分散性和穩(wěn)定性必不可少。

傳統(tǒng)的檢測拋光液穩(wěn)定性的實驗方法比較粗糙，一類是直接用不同溫濕度的存放測試，其耗時漫長又無法很好的定量；一類是通過檢測其他指標(biāo)來間接表征穩(wěn)定性，如粘度、粒度、zeta電位的差別或儲存前后的變化情況，其測試量巨大且間接指標(biāo)畢竟不能完全代表真實的儲存穩(wěn)定性情況。

針對這種情況，LUM公司在1994年開創(chuàng)了STEP（Space and Time Extinction Profiles)技術(shù)。該技術(shù)是一種創(chuàng)新型的光譜技術(shù)，通過使用近紅外光源（或多光源系統(tǒng)）不斷照射整個樣品，在樣品離心加速分離的同時，與光源平行的檢測器隨時間連續(xù)監(jiān)測并反應(yīng)樣品的透光率變化，從而形成樣品在分離過程的空間和時間透光率圖譜，可快速檢測拋光液在長期模擬儲存過程中顆粒的真實沉降，團聚，納米顆粒結(jié)晶等行為，并可通過配套的分析軟件量化成不穩(wěn)定性指數(shù)，沉降指數(shù)等，同時AUC分析離心技術(shù)還可以在快速穩(wěn)定性表征的基礎(chǔ)上提供超高分辨的粒度和分布輸出功能，既為用戶可提供更多更深入的分析信息，也極大提高了拋光液研發(fā)及品質(zhì)控制中的工作效率，有助于縮短拋光液研發(fā)周期。

STEP技術(shù)測試原理

8月25-26日，于江蘇無錫舉辦“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第二屆）”上，羅姆（江蘇）儀器有限公司（LUM China）的客戶經(jīng)理繆云新女士將為我們分享報告《拋光液的快速穩(wěn)定性表征》，屆時，她將詳細介紹LUM公司的STEP（Space and Time Extinction Profiles)技術(shù)及相關(guān)儀器在拋光液研發(fā)中的應(yīng)用，如您對該技術(shù)感興趣，千萬不要錯過這次機會！歡迎了解誒會議詳情并報名參會哦！

報告人介紹

繆云新，羅姆（江蘇）儀器有限公司/LUM China  產(chǎn)品經(jīng)理，主要負責(zé)LUM分散體穩(wěn)定性和顆粒表征的產(chǎn)品線。擅長化工，材料，食品，醫(yī)藥，日化等領(lǐng)域的分散體產(chǎn)品如懸浮液，乳液，漿料和復(fù)雜分散體等的穩(wěn)定性測試聯(lián)用技術(shù)。通過前沿的穩(wěn)定性表征技術(shù)，篩選和量化產(chǎn)品在原料，配方，工藝階段的穩(wěn)定性。

無錫研磨拋光論壇會務(wù)組