化學拋光技術廣泛應用于集成電路和超大規模集成電路中對基體材料硅晶片的拋光，是半導體晶圓制造的必備流程之一，對高精度、高性能晶圓制造至關重要。而在決定CMP最終效果的各項因素中，拋光液是關鍵中的關鍵。CMP拋光液主要由磨料、溶劑和各種不同的添加劑組成，為了保證拋光質量，避免磨料團聚對被加工材料造成大劃痕，在使用前檢測顆粒在懸浮液中的分散性和穩定性必不可少。

傳統的檢測拋光液穩定性的實驗方法比較粗糙，一類是直接用不同溫濕度的存放測試，其耗時漫長又無法很好的定量；一類是通過檢測其他指標來間接表征穩定性，如粘度、粒度、zeta電位的差別或儲存前后的變化情況，其測試量巨大且間接指標畢竟不能完全代表真實的儲存穩定性情況。

針對這種情況，LUM公司在1994年開創了STEP（Space and Time Extinction Profiles)技術。該技術是一種創新型的光譜技術，通過使用近紅外光源（或多光源系統）不斷照射整個樣品，在樣品離心加速分離的同時，與光源平行的檢測器隨時間連續監測并反應樣品的透光率變化，從而形成樣品在分離過程的空間和時間透光率圖譜，可快速檢測拋光液在長期模擬儲存過程中顆粒的真實沉降，團聚，納米顆粒結晶等行為，并可通過配套的分析軟件量化成不穩定性指數，沉降指數等，同時AUC分析離心技術還可以在快速穩定性表征的基礎上提供超高分辨的粒度和分布輸出功能，既為用戶可提供更多更深入的分析信息，也極大提高了拋光液研發及品質控制中的工作效率，有助于縮短拋光液研發周期。

STEP技術測試原理

8月25-26日，于江蘇無錫舉辦“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇（第二屆）”上，羅姆（江蘇）儀器有限公司（LUM China）的客戶經理繆云新女士將為我們分享報告《拋光液的快速穩定性表征》，屆時，她將詳細介紹LUM公司的STEP（Space and Time Extinction Profiles)技術及相關儀器在拋光液研發中的應用，如您對該技術感興趣，千萬不要錯過這次機會！歡迎了解誒會議詳情并報名參會哦！

報告人介紹

繆云新，羅姆（江蘇）儀器有限公司/LUM China  產品經理，主要負責LUM分散體穩定性和顆粒表征的產品線。擅長化工，材料，食品，醫藥，日化等領域的分散體產品如懸浮液，乳液，漿料和復雜分散體等的穩定性測試聯用技術。通過前沿的穩定性表征技術，篩選和量化產品在原料，配方，工藝階段的穩定性。

無錫研磨拋光論壇會務組