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瑞芯智造:讓納米粒度分析改變現(xiàn)狀:粒徑、濃度、Zeta電位一次全獲取

發(fā)布時(shí)間 | 2025-07-09 09:06 分類 | 行業(yè)要聞 點(diǎn)擊量 | 565
磨料
導(dǎo)讀:瑞芯智造(深圳)科技有限公司是一家專注于納米單顆粒表征技術(shù)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),致力于為科研與產(chǎn)業(yè)用戶提供高分辨率、高準(zhǔn)確性的納米顆粒分析解決方案。目前,瑞芯智造已服務(wù)數(shù)百家國(guó)內(nèi)外科...

粉體圈最近獲悉,瑞芯智造(深圳)科技有限公司推出了一款融合新一代電學(xué)庫(kù)爾特原理與全球首創(chuàng)的光刻固態(tài)納米孔芯片技術(shù)的納米粒度分析儀——它可一次性獲取粒徑、濃度、Zeta電位等多維參數(shù),能夠?yàn)閽伖鈩⒛チIa(chǎn)應(yīng)用企業(yè)的研發(fā)和質(zhì)控提供高效、簡(jiǎn)便、精準(zhǔn)的全新檢測(cè)范式。

NanoCoulter? 單顆粒分析儀

CMP拋光傳統(tǒng)檢測(cè)(組合拳)

動(dòng)態(tài)光散射(DLS)、Zeta電位儀、納米顆粒跟蹤分析(NTA)、掃描電鏡(SEM)等等技術(shù)及相關(guān)儀器,分別以不同原理和計(jì)算公式獲取包括磨粒粒徑分布、拋光液穩(wěn)定性、顆粒形貌、雜質(zhì)含量等在內(nèi)的關(guān)鍵參數(shù)。不同原理和技術(shù)需要不同儀器,對(duì)樣品要求各不相同(干、濕、濃度等)存在人工制樣偏差,非直接測(cè)量的等效理論(DLS假設(shè)磨粒為球形顆粒)存在固有偏差,離線檢測(cè)(SEM)無(wú)法捕捉動(dòng)態(tài)變化(顆粒團(tuán)聚、解聚)……

總結(jié)而言,傳統(tǒng)檢測(cè)存在固有缺陷,模型、人工、環(huán)境等導(dǎo)致的系統(tǒng)性誤差的累積很容易導(dǎo)致數(shù)據(jù)失真。

NanoCoulter? 單顆粒分析儀

傳統(tǒng)庫(kù)爾特計(jì)數(shù)器通過(guò)顆粒通過(guò)微孔時(shí)引起的電阻抗變化來(lái)推導(dǎo)出顆粒(橫截面)粒徑,以精準(zhǔn)著稱,是眾多磨料生產(chǎn)和應(yīng)用企業(yè)的必備裝備。但是傳統(tǒng)庫(kù)爾特計(jì)數(shù)器最大的局限在于,它使用的聚碳酸酯小孔管孔徑無(wú)法檢測(cè)1μm以下顆粒。

NanoCoulter? 單顆粒分析儀的技術(shù)突破具體體現(xiàn)在可實(shí)現(xiàn)對(duì)15nm起始尺寸顆粒的單顆粒級(jí)精確定量,分辨率高達(dá)1nm,數(shù)據(jù)精度媲美電鏡。


NanoCoulter? 單顆粒分析儀

NanoCoulter?的問(wèn)世意味著在液相納米顆粒表征領(lǐng)域,首次實(shí)現(xiàn)“電鏡級(jí)精度+光學(xué)法速度+多參數(shù)同步”。在對(duì)CMP拋光液的深度分析中,對(duì)磨粒精準(zhǔn)控制、工藝優(yōu)化和缺陷預(yù)防方面具有突破性價(jià)值。

關(guān)于瑞芯智造

瑞芯智造(深圳)科技有限公司是一家專注于納米單顆粒表征技術(shù)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),致力于為科研與產(chǎn)業(yè)用戶提供高分辨率、高準(zhǔn)確性的納米顆粒分析解決方案。目前,瑞芯智造已服務(wù)數(shù)百家國(guó)內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)及醫(yī)療單位,持續(xù)為納米尺度下的精準(zhǔn)研究與產(chǎn)業(yè)升級(jí)賦能。

 

粉體圈整理

作者:粉體圈

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