近日，日本“Noritake”成功開發出一款面向氮化鎵（GaN）晶圓的新型研磨墊。該產品采用獨創的“有機-無機復合技術”，并使用高耐酸性的樹脂材料，使其能夠在強酸性環境下穩定運行。與傳統的絨面研磨墊相比，新產品的研磨速度提升了30倍，有望大幅提高高速通信用半導體的生產效率。目前，正式上市時間尚未公布。
GaN晶圓拋光墊
作為日本在研磨與拋光耗材、陶瓷材料、電子陶瓷等領域的代表性企業，Noritake此次推出的新型研磨墊具備獨特的可再生結構，即便出現磨損，只需對表面進行修整即可恢復性能，其使用壽命較傳統產品提升15倍以上。此外，傳統工藝需要在研磨過程中持續注入研磨液漿，而Noritake的新型研磨墊通過將研磨劑內嵌其中，實現了無需外部液漿的加工方式，有助于降低成本和環境負荷。
在通信器件的制造過程中，晶圓表面的平坦化至關重要，研磨墊正是實現這一環節的關鍵工具。氮化鎵作為硬而脆的材料，加工難度大，產業界長期面臨縮短研磨時間和減少液漿使用量的雙重挑戰。Noritake的新型研磨墊在解決這些痛點的同時，也為減少工業廢棄物提供了切實可行的方案。
粉體圈Coco編譯
作者：粉體圈
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