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以產學研協同破局微納制造痛點,鵬城半導體打造多元化高端薄膜沉積解決方案

發布時間 | 2025-09-22 16:42 分類 | 行業要聞 點擊量 | 395
論壇 金剛石 氮化硅 氧化硅
導讀:于9月25-26日在蘇州舉辦的“2025全國納米金屬粉體/漿料制備與應用創新發展論壇”上以展商身份重磅亮相(展位號:21),屆時歡迎您到現場與他們合作洽談!

隨著電子信息、生物醫療等領域的迅猛發展,器件結構或尺度邁向微小化和微型化,微納制造技術的重要性日益凸顯。作為半導體、光電子等高科技產業的核心驅動力,微納制造直接關系到半導體等產業鏈的自主可控,是提升中國整體制造業創新力與國際競爭力、保障國家科技安全的關鍵途徑。

然而,相比于國際前沿水平,中國在微納制造技術上存在階段性差距,目前部分關鍵材料及高端設備面臨嚴峻的“卡脖子”困境。比如,由于美國商務部工業和安全局(BIS)2022年8月 12 日發布對氧化鎵及金剛石實施出口管制等,嚴重限制了我國半導體產業的發展。在這一背景下,哈爾濱工業大學(深圳)與資深工程師團隊共同創立的鵬城半導體技術(深圳)有限公司充分利用人才團隊積淀了30多年的深厚技術底蘊,針對薄膜沉積行業的痛點及難點,打造了一條覆蓋材料、器件、工藝到設備裝備制造的一條龍服務,推出了高真空磁控濺射鍍膜機、HFCVD金剛石制備設備、分子束外延薄膜生長設備、PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備等.一系列產品,在微納光學、聲學、醫療、環保領域都得到了廣泛應用。

鵬城半導體

精英人才方陣:產學研用協同創新

鵬城半導體立足于技術前沿與市場前沿的交叉點,聚焦微納技術與高端精密制造,旨在解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。針對行業普遍存在的"技術人員整合厚度不足、忽視工藝開發"的癥結,公司在創立之初就系統性構建了知識結構完整的精英人才團隊,突顯"產學研用"深度協同的優勢:

高水平的科研團隊:以哈爾濱工業大學(深圳)教授和博士為核心,專注半導體材料研究、外延技術及薄膜工藝開發,聚焦基礎理論創新;

經驗豐富的工業團隊:擁有來自工業界的高級裝備設計師,具備超過20年的半導體材料研究、外延技術開發及半導體薄膜制備成套裝備的設計與制造經驗,確保技術成果高效產業化

除此之外,公司依托哈爾濱工業大學(深圳)先進的半導體研發與檢測平臺,在高真空磁控濺射、分子束外延(MBE)等核心裝備研發中占據高起點,為突破鍍膜監控系統、工藝算法優化等"卡脖子"環節提供了堅實基礎。

核心產品體系:多元化薄膜沉積解決方案

基于人才與平臺優勢,鵬城半導體成功開發出多款面向不同工藝、不同應用的薄膜沉積裝備,為中國微納制造自主化提供關鍵支撐:

1、生產型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機

高真空磁控濺射鍍膜機

該設備用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的鍍膜,深徑比>10:1。例如:用于基板鍍膜工序Cu/Ti微結構,Au/TiW傳輸導線雙體系膜層淀積能力,為微系統集成密度提升提供支撐。

優點:膜層均勻性及重復性高,膜層附著力強,設備依據工藝配方進行可編程自動化控制。

2、HFCVD金剛石制備設備


HFCVD金剛石制備設備及生產線

該設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。可用于力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。

應用領域:

制造大尺寸金剛石多晶晶圓片,用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。

生產制造防腐耐磨硬質涂層;環保領域污水處理用的金剛石產品。

平面工件的金剛石薄膜制備,也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。

用于太陽能薄膜電池的研發與生產。

3、科研型高真空磁控濺射儀

科研型高真空磁控濺射儀

該系列設備主要用圓形磁控濺射靶進行濺射的方法,制備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質復合膜及其它化學反應膜等;適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜;可鍍制磁性材料和非磁性材料。可用于TGV/TSV/TMV 先進封裝的研發,高深徑比(≥10:1)的深孔種子層鍍膜。

4、分子束外延薄膜生長設備(MBE)

分子束外延薄膜生長設備

該設備可以在某些襯底上實現外延生長工藝,實現分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等,可以進行第二代半導體和第三代半導體的工藝驗證和外延片的生長制造。

優勢:該設備在薄膜外延生長時具有超高的真空環境,是在理想的環境下進行薄膜外延生長,它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素,得到理想的高精度薄膜。

5、PECVD等離子體增強化學氣相沉積

PECVD等離子體增強化學氣相沉積

該設備主要采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術,在潔凈真空環境下進行氮化硅氧化硅的薄膜生長,是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。

6、生產型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機

高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機

PVD-1000S系列設備集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體,其真空達7X10-5Pa。可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等,廣泛應用于銑刀、鉆頭、軸承、齒輪、鏡片等表面的硬質耐磨涂層制備。

7、生產型 高真空磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機

高真空磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機

PVD-1000B系列設備同樣集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體,可在工件表面制備各種薄膜材料,其真空達8X10-5Pa。

小結

在微納制造技術驅動高科技產業發展的關鍵時期,鵬城半導體技術(深圳)有限公司重視工藝研究,致力于解決國內產業鏈的痛點和國產化難題,希望通過產學研用的深度協同,在微納技術與高端精密制造領域實現創新引領與可持續發展,推動半導體材料、工藝及設備的技術突破,減少對進口核心裝備及工藝的依賴,最終提升中國制造業的創新力與國際競爭力,為國家科技安全提供堅實保障。

值得期待的是,即將于9月25-26日在蘇州舉辦的“2025全國納米金屬粉體/漿料制備與應用創新發展論壇”上以展商身份重磅亮相(展位號:21),屆時歡迎您到現場與他們合作洽談!

 

蘇州納米金屬論壇

作者:粉體圈

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