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美國大學(xué)研發(fā)出原子級薄的材料

發(fā)布時間 | 2015-01-04 10:06 分類 | 技術(shù)前沿 點(diǎn)擊量 | 5644
導(dǎo)讀： 據(jù)科學(xué)日報報道，美國萊斯大學(xué)研發(fā)的一個原子級薄的材料，這或可能導(dǎo)致研發(fā)目前最薄的成像平臺?；诮饘倭蜃寤衔锏暮铣啥S材料可能是超薄設(shè)備的基礎(chǔ)，萊斯大學(xué)的研究人員這樣表示。其中一...

      據(jù)科學(xué)日報報道，美國萊斯大學(xué)研發(fā)的一個原子級薄的材料，這或可能導(dǎo)致研發(fā)目前最薄的成像平臺。基于金屬硫族化合物的合成二維材料可能是超薄設(shè)備的基礎(chǔ)，萊斯大學(xué)的研究人員這樣表示。其中一個這樣的材料二硫化鉬，因其檢測光的特性而被廣泛研究，但是銅銦硒化物（CIS）也表現(xiàn)出同樣非凡的潛力。

（來源：鳳凰網(wǎng)）

作者：粉體圈

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