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硝酸鈰銨用于電路板刻蝕? 鍍膜 脫膜工藝

硝酸鈰銨是有機合成中的 “多功能試劑”,主要用作選擇性氧化劑自由基聚合引發劑,憑借其溫和的反應條件、高選擇性及易分離的特點,廣泛應用于精細化工、醫藥中間體合成等場景。

硝酸鈰銨(化學式:(NH?)?Ce (NO?)?,簡稱 CAN)是一種重要的稀土無機化合物,兼具強氧化性、良好的水溶性與結晶穩定性,且 Ce??離子的氧化還原電位適中(約 1.61V vs NHE),使其在有機合成、電子材料、催化、分析化學等領域具有不可替代的作用。

  • 半導體刻蝕:Ce??可與硅、鍺等半導體材料發生氧化 - 溶解反應,生成可溶性的鈰鹽與硅 / 鍺氧化物,實現對半導體表面的選擇性刻蝕,刻蝕速率可通過調整硝酸鈰銨濃度、溫度及 pH 值精確控制;

  • 電極改性:硝酸鈰銨可氧化電極表面的金屬(如銅、銀)形成致密的氧化物保護層,或與電極材料發生 redox 反應引入活性位點,提升電極的導電性、耐腐蝕性與催化活性。

  • 印刷電路板(PCB)制造

    • 銅層蝕刻:替代傳統的氯化鐵、過氧化氫 - 硫酸體系,硝酸鈰銨蝕刻液對銅的蝕刻速率穩定(10-20μm/min),且對 PCB 基材(如環氧樹脂)無腐蝕,蝕刻后線路邊緣平整,減少毛刺,提升 PCB 的電路精度;

電路板刻蝕?:60℃下1小時降解率達99%,用于集成電路腐蝕工藝


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