4月14日,東洋炭素株式會社(toyo tanso)宣布,為滿足碳化硅sic半導體市場需求,公司決定將進行資本投資,以增加 TaC(碳化鉭)涂層石墨產品的產能,預計在2025年投產并且產能翻倍(與2023財年相比)。
碳化鉭是一種過渡金屬碳化物,不溶于水,微溶于硫酸和氫氟酸,溶于氫氟酸和硝酸的混合溶液。它的化學性質極為穩定,具有優異的物理和化學性能,如高硬度、高熔點、良好的導電性和抗熱震性、較好的耐化學腐蝕性能和電導性,高的抗氧化性和一定的催化性能等,常被用于添加劑或涂層材料。
如圖,這是一種高純度各向同性石墨基體,上面覆蓋著致密的碳化鉭(TaC)涂層,具有超高的熱耐久性,而且無裂紋,抗熱震性好。由于碳化鉭的熔點約為4000℃,因此TaC涂層石墨與SiC(碳化硅)涂層石墨產品相比,具有更優異的耐熱性,隨著市場的增長需求也在增加。東洋炭素采用獨特技術制造的碳化硅/碳化鉭(SiC/TaC)復合材料電芯,推動了碳化硅(SiC)半導體制造的發展。
編譯整理 YUXI
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作者:粉體圈
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