根據(jù)國家發(fā)改委通知,中國電科二所“SiC單晶襯底材料制備產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目獲得國家發(fā)改委2015年第三批專項(xiàng)建設(shè)基金支持。該項(xiàng)目將在現(xiàn)有碳化硅工藝技術(shù)基礎(chǔ)上進(jìn)行高純SiC粉料合成、6英寸SiC單晶生長、4英寸高純半絕緣SiC單晶生長工藝及其相關(guān)設(shè)備產(chǎn)業(yè)化建設(shè),最終實(shí)現(xiàn)規(guī)?;可a(chǎn)能力。
今年早些時(shí)候,山西省科技廳組織有關(guān)專家對中電二所完成的“4英寸碳化硅單晶材料工程化制備”項(xiàng)目進(jìn)行了成果鑒定。專家組普遍認(rèn)為,該項(xiàng)目在同類研究中總體達(dá)到了國內(nèi)領(lǐng)先水平,其中單晶材料生長設(shè)備達(dá)到了國際先進(jìn)水平。該項(xiàng)目順利通過成果鑒定標(biāo)志著中電二所碳化硅設(shè)備及材料已經(jīng)達(dá)到了國際及國內(nèi)相應(yīng)水平,該所的碳化硅設(shè)備及材料獲得專家一致好評。
(粉體圈 作者:郜白)
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