CMP拋光液中通常含有納米級的磨料顆粒和多種添加劑，這些顆粒需要均勻分布以確保拋光過程的均勻性和效率，高壓均質(zhì)機(jī)則在其中扮演至關(guān)重要的角色——它通過高壓下的強(qiáng)烈剪切和撞擊作用，將顆粒分散到納米級別，并保持其穩(wěn)定的懸浮狀態(tài)，從而改善拋光液的性能。

高壓均質(zhì)機(jī)與CMP拋光

芯片制造對于拋光不均勻或劃傷晶圓表面是最不能容忍和接受的。目前的晶圓拋光普遍采用CMP拋光技術(shù)，拋光液作為該工藝的核心關(guān)鍵耗材，技術(shù)壁壘高，國產(chǎn)化率較低，其中一個重要原因就是納米磨粒均勻分散難度高。高壓均質(zhì)機(jī)幾乎是目前唯一得到行業(yè)成熟應(yīng)用的納米分散設(shè)備。高壓均質(zhì)機(jī)是近年來迅速發(fā)展起來的一類均質(zhì)機(jī)，以其原理和結(jié)構(gòu)帶來的優(yōu)勢成為CMP拋光液提升性能的重要助力。

ATS高壓均質(zhì)機(jī)原理示意圖

高壓均質(zhì)機(jī)原理及優(yōu)勢

以安拓思納米技術(shù)（蘇州）有限公司（以下稱，安拓思）高壓均質(zhì)機(jī)為例簡單介紹其工作原理——通過往復(fù)運(yùn)動的柱塞泵將樣品擠入一個狹小的縫隙，在縫隙中受到一個非常高的壓力擠壓，而當(dāng)樣品通過縫隙之后只承受很低的壓力（一般為1bar），所以瞬間失壓的樣品會產(chǎn)生一個很大的爆破力；瞬間失壓的樣品會有非常快的速度噴射出來（200~1000m/s），也會產(chǎn)出很強(qiáng)的撞擊力；樣品在高速噴射的過程中樣品顆粒之間也會產(chǎn)生一定的剪切力；所以綜合來說通過爆破力，撞擊力和剪切力就能達(dá)到非常好均質(zhì)效果，能夠使團(tuán)聚的物料均勻分散。

l 金屬雜質(zhì)可控，無污染風(fēng)險(xiǎn)

l 耐腐蝕配件，提高使用年限

l 產(chǎn)品均一度高，分散均勻

l 四重安全設(shè)置，降低風(fēng)險(xiǎn)

l 對比微射流均質(zhì)機(jī)，容腔不易堵塞，性價(jià)比更高

應(yīng)用案例及分析

ATS均質(zhì)機(jī)分散后的二氧化硅拋光液粒徑對比

通過上述結(jié)果，可以看出使用高壓均質(zhì)機(jī)不僅可以提高CMP拋光漿料的性能和質(zhì)量，還降低了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率，對于CMP工藝的優(yōu)化和提升具有重要意義。而且不難看出高壓均質(zhì)機(jī)不僅在CMP拋光漿料中有顯著優(yōu)勢，還可以應(yīng)用于其他納米材料的分散和均質(zhì)過程，具有廣泛的應(yīng)用前景和市場潛力。

關(guān)于安拓思

安拓思納米技術(shù)（蘇州）有限公司成立于2001年，隸屬于上海多寧集團(tuán)，是一家專業(yè)從事精細(xì)化工、新能源材料等納米制備設(shè)備與工藝輔助，集技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的蘇州高新技術(shù)企業(yè)。安拓思建有先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)化車間及復(fù)雜制劑納米化設(shè)備研究中心，主營的高壓均質(zhì)機(jī)、微射流均質(zhì)機(jī)等設(shè)備通過NOV機(jī)構(gòu)的ISO9001體系認(rèn)證和UDEM的CE認(rèn)證，致力于成為納米均質(zhì)服務(wù)領(lǐng)域的專家，提供從實(shí)驗(yàn)型到大型生產(chǎn)不同階段需求的設(shè)備及技術(shù)解決方案。

如果您從事CMP拋光業(yè)務(wù)，關(guān)注納米分散工藝，一定不要錯過即將在無錫舉辦的“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇”，8月25-26日，安拓思與您不見不散！

無錫拋光論壇會務(wù)組