溯源

硅酸酯通式為Si(OR)?，其中R主要指代烷基（有時也指代芳基），它是日本FUJIMI制備超純硅溶膠的主要原料，即當前半導體行業CMP拋光液的范式基礎。據廠商和相關實驗研究數據顯示，FUJIMI的超純硅溶膠產品純度可達99.9999%（6N級）甚至更高，這使其關鍵金屬離子（如Na?、K?、Ca2?、Fe3?）含量低于10ppb，滿足先進制程的要求。

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突破

日本FUJIMI之所以是業界公認半導體CMP拋光液的全球領導者，主要其超純膠體二氧化硅（硅溶膠）制備技術和量產能力的領先。半導體行業追求清潔度是為了減少CMP后晶圓上的納米缺陷數量，即便FUJIMI在1985年引入基于醇鹽的超純二氧化硅后，仍持續不斷進行減少拋光漿料污染的研究——提升硅溶膠純度最直接方式無疑是提升硅酸酯的純度。粉體圈近日獲悉，中化學華陸新材料有限公司（華陸新材）自研的硅酸酯制備技術在生產上取得了突破性進展，能夠穩定生產出純度達到4N級的產品，且已掌握將其提純至8N的工藝，正在準備中試提純產線。這意味著國產半導體CMP拋光液已滿足達成世界最高水平的關鍵前提。

目前，經過先進的合成技術和嚴格的質量控制，華陸新材已成功實現高達6N級的純度的硅溶膠，10-200nm之間高圓整度二氧化硅顆粒的制備。這意味著公司已經可以提供粒徑分布極為均勻、顆粒形狀接近完美的二氧化硅顆粒，用于滿足精密研磨的嚴格要求。

產品及應用

華陸新材已實現20nm-500nm范圍內硅溶膠的可控制備

華陸新材高純硅溶膠除半導體制造，也廣泛應用于光學器件的拋光，航空航天材料的加工等領域。

半導體制造領域：在芯片制造過程中，硅片的平整度和光潔度對最終產品的性能至關重要。高純硅溶膠能夠提供優異的拋光效果，提高芯片的良品率和性能穩定性。

光學器件加工：光學鏡頭和顯示器件的表面質量直接影響其光學性能。采用高純硅溶膠進行拋光，可以最大限度地減少表面缺陷，提高產品的光學性能和使用壽命。

航空航天材料加工：高純硅溶膠在航空航天領域同樣表現出色。其可用于高精度零部件的表面處理，確保在極端環境下依然保持高性能和長使用壽命。

結語

自2020年成立以來，秉承著科技創新、綠色環保的發展理念，華陸新材迅速成長為硅基新材料領域的新星企業，專注于研發和生產以有機硅為基礎的各種新材料，產品線涵蓋從氣凝膠到硅溶膠，這些材料在電子、光學、涂料、建筑、化工等多個行業有著廣泛的應用前景。

為了更好地契合下游客戶的需求，華陸新材正積極尋找有實力的合作伙伴，共同探索高純硅溶膠的更多應用潛力。華陸新材認為通過合作開發，公司能夠推出更多高端化的研磨液產品，進一步提升市場競爭力。

關于華陸新材

2021年，中國化學提出打造“兩商”的戰略：工業工程領域綜合解決方案服務商、高端化學品和先進材料供應商。化學工業部第六設計院作為華陸工程科技有限責任公司前身，成功引入戰略投資方萬華化學集團股份有限公司，形成中國化學、萬華化學和員工持股平臺的三元股權結構，順利完成混合所有制改革，企業發展呈現嶄新面貌、迸發全新活力。

中化學華陸新材料有限公司是中國化學華陸工程科技有限責任公司貫徹國家發展戰略，聚焦基礎戰略性前沿新材料領域，踐行中國化學“兩商”布局，投資成立的新材料研發生產銷售企業，公司從自身實際情況出發，關注企業痛點難點問題，努力為客戶提供一體化的材料解決方案。

粉體圈郜白