10:00 - 22:00

會議報到（酒店大堂）

12:00- 13:30

午餐

18:00- 20:00

晚餐

20:00- 21:00

圓桌論壇·第三代半導體拋光材料與工藝（四樓南長北新廳）

主持人：

孫韜  上海工程技術大學   博士、教授

07:00-08:00

早餐

●　　會議開幕　　主持人　孫柯 中國電子材料行業協會粉體技術分會秘書長 粉體圈總經理

08:30-08:35

參會嘉賓介紹

●　 技術交流　　主持人： 陶建中 江蘇省半導體產業協會副秘書長

時間

報告題目及報告人

08:35-09:00

淺談CMP拋光液中磨料粒徑控制和磨料復配技術

張保國 教授、博士生導師

河北工業大學微電子技術與材料研究所

09:00-09:25

集成電路拋光中的納米磨粒與應用

孫韜  博士、教授、董事長

寧波贏晟新材料有限公司

09:25-09:50

超精密CMP納米氧化鈰拋光材料及其性能研究

趙朗   副研究員

中國科學院長春應用化學研究所

09:50-10:20 

 茶歇   參觀展覽

10:20-10:45

高端顯示玻璃基板用CMP稀土鈰基拋光漿料的研制及機理

梅燕  博士、教授級實驗師

北京工業大學

10:45-11:10

CMP研磨液和半導體晶圓之間的相互靜電作用評價

橋田 紳乃介   技術副總經理

大塚電子（蘇州）有限公司

11:10-11:35

陶瓷結合劑金剛石砂輪的制備及其應用

侯永改  博士、教授、總工程師

河南工業大學、鄭州力弘超硬材料有限公司

11:35-12:00

顆粒檢測在精密研磨拋光領域的解決方案以及應用

郭志斌  高級應用工程師

丹東百特儀器有限公司

12:00-12:10

合 影 留 念

12:10-14:00

 午 餐   參觀展覽

●　 技術交流 主持人： 陳洪建 博士、教授 河北工業大學

14:00-14:25

碳化硅襯底加工切、磨、拋耗材整體解決方案

張澤芳  博士、總經理

上海映智研磨材料有限公司

14:25-14:50

拋光液的快速穩定性表征

繆云新  產品經理

羅姆（江蘇）儀器有限公司/LUM China

14:50-15:15

微射流技術在CMP拋光液制備中的應用優勢

報告人待定

上海邁克孚生物科技有限公司

15:15-15:40

CMP拋光用高純氧化鋁的制備及應用

楊叢林 經理

中鋁山東有限公司高純氧化鋁事業部

15:40-16:10

 茶歇   參觀展覽

16:10-16:35

進口研磨墊和立體拋光砂紙的國產化替代研究

高德耀 總經理

湖南麥克斯菲爾新材料有限公司

16:35-17:00

納米氧化鈰磨粒的制備及其在碳化硅襯底拋光中的應用

倪自豐  博士、副教授

江南大學

17:00-17:25

精密拋光用氧化鋁拋光液的制備和應用

紀發明 研發總監

鎮江瑞斯普新材料科技有限公司

17:25-17:50

議題待定

王寧 博士、研究主管

有研稀土新材料股份有限公司

18:30-20:30

答謝晚宴